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上海盛剑微电子申请用于钨化学机械抛光组合物等专利,提高抛光均匀性

关键词 抛光|2025-07-24 11:29:18|涂附新闻|来源 金融界
摘要 金融界2025年7月23日消息,国家知识产权局信息显示,上海盛剑微电子有限公司申请一项名为“用于钨的化学机械抛光的组合物及其制备方法和化学机械抛光的方法”的专利,公开号CN1203...

金融界2025年7月23日消息,国家知识产权局信息显示,上海盛剑微电子有限公司申请一项名为“用于钨的化学机械抛光的组合物及其制备方法和化学机械抛光的方法”的专利,公开号CN120349734A,申请日期为2025年04月。

专利摘要显示,本发明涉及半导体制造技术领域,具体而言,涉及用于钨的化学机械抛光的组合物及其制备方法和化学机械抛光的方法,该用于钨的化学机械抛光的组合物的原料包括磨料、酸、氧化剂、催化剂和分散剂,其中,磨料包括气相法二氧化硅,分散剂包括氟膦酸二酯。本发明的组合物不容易出现磨料团聚、沉降的问题,能够在抛光含钨的材料时,提高抛光的均匀性,减少抛光后形成的划痕。

天眼查资料显示,上海盛剑微电子有限公司,成立于2021年,位于上海市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析,上海盛剑微电子有限公司参与招投标项目1次,专利信息39条,此外企业还拥有行政许可7个。


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