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硅激光研究出现重大进展

关键词 硅激光|2005-04-27 00:00:00|金属加工|来源 中国涂附磨具网
摘要   2月16日Intel公司宣布,利用硅生产工艺取代目前制造激光所需的昂贵材料和工艺,生产出一种内含8个连续Raman激光芯片,芯片中的激光器可发射连续的激光流,激光流可被调制为代...

  2月16日Intel公司宣布,利用硅生产工艺取代目前制造激光所需的昂贵材料和工艺,生产出一种内含8个连续 Raman激光芯片,芯片中的激光器可发射连续的激光流,激光流可被调制为代表数据的脉冲流。廉价的光学器件不仅能带来速度更快的计算机,还将导致更低廉、更精确的医疗设备。硅激光器可能至少5年时间里不会进入市场。但这种芯片将激发业界对硅激光技术的热情和兴趣。Raman激光利用1928年由诺贝尔获奖者Chandrasekhara Venkata Raman发现的Raman效应产生激光。硅材料中的Raman效应比标准玻璃强1万倍。但是,硅材料若发出激光,就必须解决释放的电子云。为了解决这个问题,Intel的芯片在硅室周围形成一个电场,电场驱散电子云, 使激光可以被捕获、放大和发射。

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