摘要 摘要:本文对超高压合成的PDC,采用SEM、EDS等分析方法研究了PCDL界面结构,分析了粘结相钴扩散规律及聚晶金刚石复合体复合机理。实验结果表明,WC-CO-金刚石界面...
摘要:本文对超高压合成的PDC,采用SEM、EDS等分析方法研究了PCDL界面结构,分析了粘结相钴扩散规律及聚晶金刚石复合体复合机理。实验结果表 明,WC-CO-金刚石界面的结合,WC-CO与金刚石界面的结合强度不仅与界面钴含量有关,而且与界面上的钴的组织结构有关:D-D结合区域中的D-D 结合界面处钴浓度远低于D-CO-D结合区域的晶粒间界钴的浓度,说明D-D结合区域和D-CO-D结合区域的晶粒间界中钴的形式是不同的。
研究不同处理表面结合机理具有普遍意义。因为在不同处理接触表面之间形成一种牢固的结合,这是许多领域最重要的研究课题之一,如焊接,金属陶 瓷的制造等。钴扩散式PDC材料WC-CO层与PCD层的复合问题,可从两个方面来考虑:(1)WC-CO层与PCD的复合;(2)PCD层金刚石之间的 复合。