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上海润平电子申请低硬度研磨垫及其制备方法专利,降低研磨垫硬度减少晶圆抛光缺陷

关键词 研磨垫|2025-05-16 15:56:56|涂附新闻|来源 金融界
摘要 专利摘要显示,本发明提供了一种低硬度研磨垫及其制备方法,所述的制备方法包括:提供基材层、热熔粘结层与上垫层;对所述基材层进行预处理,得到邵氏硬度<50SHA的缓冲层,随后在所述缓....

金融界 2025 年 5 月 12 日消息,国家知识产权局信息显示,上海润平电子材料有限公司申请一项名为“一种低硬度研磨垫及其制备方法”的专利,公开号 CN119952607A,申请日期为 2025 年 3 月。

       专利摘要显示,本发明提供了一种低硬度研磨垫及其制备方法,所述的制备方法包括:提供基材层、热熔粘结层与上垫层;对所述基材层进行预处理,得到邵氏硬度<50SHA 的缓冲层,随后在所述缓冲层表面贴合热熔粘结层,并进行一次热压;在所述热熔粘结层表面贴合上垫层,并进行二次热压,随后对所述上垫层进行窗口制作形成至少一个窗口,再进行切槽处理形成若干个沟槽;提供感应粘合层,将所述感应粘合层贴合在缓冲层远离热熔粘结层的一侧表面,并进行三次热压,得到低硬度研磨垫。本发明降低了研磨垫的硬度,进而减少了晶圆抛光过程中表面划伤或缺陷。

       天眼查资料显示,上海润平电子材料有限公司,成立于2021年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1234.97万人民币。通过天眼查大数据分析,上海润平电子材料有限公司共对外投资了6家企业,财产线索方面有商标信息11条,专利信息24条,此外企业还拥有行政许可2个。


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