磨削和研磨等磨料处理是半导体芯片加工过程中的一项重要工艺,它主要是应用化学研磨液混配磨料的方式对半导体表面进行精密加工,但是研磨会导致芯片外表的完整性变差。因而,抛光的...
CMP抛光液(chemicalmechanicalpolishing化学机械抛光,简称CMP)是平坦化精密加工工...
超精密磁流变抛光(MagnetorheologicalFinishing,MRF)技术自1998年被美国QED公...
申请号:201410194635.X摘要:本发明的目的是提供一种经济实用、修整方便、应用范围广的动态磨削砂轮,一种动态磨削砂轮及其磨削方法,包括砂轮基体,所述砂轮基体的...
对金属、五金、不锈钢工件来讲,对研磨抛光材料的要求也是很高的,同时,在选择研磨抛光材料抛光液的选择和使用都有要求。汉通研磨先为大家介绍抛光材料抛光液,具高纯度二氧化硅等...
申请号:201310071571.X申请人:天津市乾宇超硬科技有限公司摘要:本发明提供制备多种粒度的用于晶体加工的水基金刚石抛光液的方法,该抛光液适宜抛光多种晶体。...
电抛光液和工艺条件。电抛光溶液对于抛光的质量有非常重要的影响。电抛光溶液因金属材料的不同而不同,无统一配方,但是对于电抛光溶液都有如下一些要求。①电抛光溶液中应当含有一...
摘要 化学机械抛光(CMP)已成为公认的纳米级全局平坦化精密超精密加工技术。抛光液在CMP过程中发挥着重要作用。介绍了CMP过程中抛光液的作用的研究进展,综合归纳了...
抛光液,以其优越的性能、可靠的品质,赢得了广大用户的信赖,使用户获得最合理的抛光工艺、最优的抛光质量和最佳的效率。产品广泛应用于汽车、摩托车、航空、发动机、压缩机、...
申请(专利)号:CN200610001059.8 申请日:2006.01.18 公开(公告)号:CN1807540 公开(公告)日:2006.07.26 主...
0 引 言近年来,计算机技术突飞猛进,作为计算机数据存储的主要部件硬盘,向大容量、高转速、小体积和高安全性的方向发展。要使单片容量增加,就对硬盘基板抛光后的表面状况...
近日从包头市科技局了解到,包头稀土研究院日前与包头天骄清美稀土抛光粉有限公司签订了氧化铈新型半导体抛光液科研项目合作开发协议,标志着我国在化学机械抛光技术研发领域迈...
淄博这所工业老城,骨子里流淌着磨料磨具的血液。历史上,全国第...
今年我们新开了一条制砂线,产业链从单一的棕刚玉块延长至棕刚玉...
2023年9月20日,时隔四年,期待已久的第六届磨料磨具磨削展览会在郑州国际会展中心隆重开幕。本次展览会由中国机械工业集团有限公司、国机精工股份有限公司、中国机械国际合作股份有限公司联合主办。旨在推动中国磨料磨具行业的快速发展,加强国内外企业的交流与合作。
1963年,我国成功研制出第一颗人造金刚石,经过几代人的拼搏奋斗,实现了从无到有、从小到大、从弱到强的华丽蝶变。人造金刚石及其制品在我国航空航天、国防军工、机床机械等领域发挥着愈发重要的作用。不仅如此,随着金刚石技术的选代,金刚石民用领域—培育钻石迎来了自己的大爆发,中国占据了世界培育钻石产量的80%以上,近几年在国际上产生了巨大影响力。