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金融界2025年6月28日消息，国家知识产权局信息显示，东莞市伟元科技有限公司申请一项名为“一种芯片用抛光液及其制备方法”的专利，公开号CN120209714A，申请日期为2025年03月。

专利摘要显示，本发明公开了一种芯片用抛光液及其制备方法，该抛光液包括如下百分比原料：改性磨料0.5‑0.8％、双氧水1‑1.2％、甘氨酸2‑2.5％、改性抑制剂0.1‑0.5％和聚乙二醇0.5‑1％，余量为水，将原料混合均匀，加入氢氧化钾调节pH值为8.5，制得芯片用抛光液，改性抑制剂的加入能够在铜表面形成一层致密的钝化膜，有效阻止抛光液对铜表面的腐蚀，改性填料以二氧化硅为主体材料表面和内部嵌有氧化铝，使得改性填料在具有高硬度的同时不容易团聚，降低了抛光液的粘度，进而使得抛光液更容易清洗，减少的工序，提升抛光效率。

天眼查资料显示，东莞市伟元科技有限公司，成立于2019年，位于东莞市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，东莞市伟元科技有限公司参与招投标项目3次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息30条，此外企业还拥有行政许可10个。